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集成电路布图设计申请保护的实质性条件
  • 来源 : 朗辰知识产权
  • 阅读量 :
  • 日期 : 2020-11-21
   集成电路布图设计,是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。
 
   《集成电路布图设计保护条例》的目的在于调动集成电路布图设计创作者进行创作的积极性,促进集成电路的发展。为此,应当赋予创作者一定的专有权或者独占权。相对的,受条例保护的布图设计也应当当具备一定的条件,即独创性。具体有以下几点:
 
   一、独创性
 
   受保护的布网设计应当具有独创性,即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图没计,其组合作为整体也应当具有独创性。这里的独创性和著作权的独创性相似。即只须具备独创性即获得专有权保护,并不要求该布图设计应当具备创造性,或者对现有技术有实质性的改进。

 
   二、非常规设计
 
   非常规设计是指创作的布图设计在布图设计创作者和集成电路制造中不是公认的常规设计,这种非常规设计只要求一定的比常规设计进步的差异性。这类似专利新颖性的要求,但在创造高度上尚没有专利新颖性的标准。
 
   三、保护范围
 
   对布图设计的保护而言,不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。只作为创作者的意念或思想的设计不受法律保护。只有这种存在于大脑中的意念或思想由主观变成为客观的时候,才有可能受法律保护。
 
   另外,布图设计是一种立体的设计,就是说它的形式是三维的,而不是二维(平面)的。所以当布图设计以立体的形式表现时,才可能受保护。只有表现为半导体集成电路的涂层上的立体结构才是布图设计,才能受到《条例》的保护。在布图设计中,受保护的是元件布局的设计,而不是元件本身。并且,受保护的布图设计必须能够在产业中应用。
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